《真空电子技术》投稿须知
《真空电子技术》是我国真空电子领域内创刊较早的全国性综合类科技期刊，由北京真空电子技术研究所主办。创刊于1959年，国内外公开发行，在真空电子领域具有广泛的影响力。本刊是中国真空电子行业协会会刊，中国科技论文统计源刊，中国核心期刊（遴选）数据库收录期刊，中国学术期刊（光盘版）用刊，《中国科学引文数据库》来源期刊。本刊为双月刊，国内外公开发行。欢迎广大读者积极投稿。稿件要求如下：
1．来稿务求论点明确，论据可靠，数据准确，图像清晰，字数3000~5000字。
2．来稿不得涉及国家机密，文责自负，并请附上单位相关部门的保密审查证明，作者自留底稿，稿件录用与否，均不退还。
3．来稿中文稿要有中、英文对照，应包含中英文篇名、作者的姓名和工作单位、论文摘要（200~300字）、关键词（4~8个）等。摘要应反映文章的主要内容，有足够的信息量，包含目的 （可选项）、方法、主要论据、结果和结论等。基金资助项目务必标明项目号。
4．术语、单位符号、物理量符号以及图形和文字代号等书写形式应符合国家标准。
5．文稿中使用他人成果务必在参考文献中列出，书写格式要求如下：
a. 专著、论文集、学术报告
[序号]主要责任者.文献题名[文献标识码].出版地:出版者,出版年.起止页码.
b.期刊文章
[序号]主要责任者（合著者至少写出前三位作者）.文献题名[J].刊名,年,卷(期):起止页码.
c.论文集中的析出文献
[序号] 析出文献主要责任者. 析出文献题名[A].原文献主要责任者.原文献题名[C].出版地:出版者,出版年. 析出文献起止页码.
d.专利
[序号]专利所有者.专利题名[P].专利国别:专利号,出版日期.
e非正式出版物、互联网主页(网址)不能作为参考文献放在正文中。
6．来稿请勿一稿多投。
7．稿件请提供作者简介和第一作者一寸免冠照片，简介包括姓名、出生年月、学历、职务职称、联系电话和E-mail、主要专业研究方向等。
8．本刊承诺自收稿之日一个月之内回复作者审稿结果，超此期限作者可将稿件另投。
9．作者应保证有合法的著作权。合作的论文，署名人数与顺序由作者自定，但需征得合作者同意。
10.请勿一稿多投。文稿一旦录用，编辑发录用通知单。录用的稿件编辑部有权删改。